真空镀膜机的工作原理

真空镀膜机主要是指需要在高真空下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。主要思想分为蒸发和溅射。

真空镀膜机的工作原理如下：

    在涂膜领域，涂膜后试样的厚度是影响涂膜性能的重要因素。因此，在评价薄膜样品的性能时，有必要对薄膜样品在不同厚度下的性能进行测试。在真空镀膜的情况下，通常需要制备几个样品。但是，在样品制备过程中存在两个问题：一是不同生长时间的样品仪器状态不同，影响薄膜样品性能的因素可能不仅仅是厚度；二是需要再次进行真空镀膜实验来获得样品，这通常并不费时。增加了生产和测试成本。

    因此，本发明提供一种多功能磁控溅射镀膜系统。该系统由真空镀膜系统和手套箱系统组成，在高真空蒸发室内完成薄膜蒸发，在手套箱中高纯惰性气体气氛中蒸发后的样品储存、制备和测试。蒸发镀膜与手套箱的结合，可以实现蒸发镀膜、包装、检测等过程的全封闭生产，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个可控环境气氛的完整系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境不稳定因素的影响，保证高性能大面积有机光电器件和电路的制备。

    多功能磁控溅射镀膜系统的主要用途是制备各种金属薄膜、半导体薄膜、介电薄膜、磁控薄膜、光学薄膜、超导薄膜、传感薄膜和有特殊要求的功能薄膜。